Assoul, KhoulaAguaguena, RababMoualkia, Hassiba2018-11-282018-11-282018http://hdl.handle.net/123456789/6580Dans ce travail nous avons déposé le sulfure de cuivre CuxS par bain chimique. Les échantillons que nous avons déposés sont formés de deux couches de CuxS. En premier lieu, nous avons réalisé des couches minces de CuxS, les temps de dépôt des ces films (premières couches) sont 1h 30 min, 2h, 2h 30 min. Ensuite, avec les mêmes conditions de dépôt, nous avons déposé une deuxième couche de sulfure de cuivre CuxS sur la couche primaire de chacun de ces trois échantillons. De cette manière, nous avons obtenue finales déposées pendant : 3h, 4h et 4h 30 min. Les épaisseurs de ces couches primaires de CuxS sont mesurées par la spectroscopie de rétrodiffusion de Rutherford. Les épaisseurs des couches primaires déposées pendant 1h 30, 2h et 2h 30 min sont 30, 50 et 60 nm, respectivement. Ces valeurs des épaisseurs des couches primaires nous ont permis d'estimer les épaisseurs finales des films déposés (60 nm, 100 nm et 110 nm). Le film déposé à 4h 30 min a montré une absorbance élevée sur toute la gamme spectrale utilisée. Les films de CuxS déposés à 3h et 4h ont une transmittance de 54 % et 38 % respectivement. L'énergie du gap optique varie entre 2,42 eV et 2,47 eV. Les spectres DRX des films de CuxS déposés à 4h et 4h 30 min ont montré de faible pics de diffraction assignés au plan (108), (102) et (110) de la structure hexagonale du covellite CuS.frCouche minceSulfure de cuivrePhotocolyseOther