Elaboration de couches minces d'oxyde de zinc par pulvérisation pyrolytique destinées à des applications optoélectroniques
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Date
2010
Authors
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Publisher
Université d' Oum El Bouaghi
Abstract
Le travail de ce mémoire rentre dans le cadre de la modélisation et la simulation des transistors à effet de champ à barrière Schottky à l'arséniure de gallium dit Mesfet GaAs.
Apres avoir rappelé brièvement les propriétés physiques de la diode Schottky et du matériau semi-conducteur l'arséniure de gallium GaAs nous présentons la structure et le principe de fonctionnement des composant a effet de champ à base de GaAs (Mesfet, Hfet, Hemt, Phemt et Pphemt).
Par la suite, l'étude des propriétés statiques du composant Mesfet nous a conduit à définir le système d'équations générales régissant le comportement de la zone active, ainsi que l'effet des éléments parasites et des paramètres physique spécifiques à ce composant.
Enfin, nous terminons ce travail par établissement d'un logiciel de simulation basé sur les expressions analytique obtenues précédemment, Les résultats obtenus sont présentes, discutés et compares avec ceux l'expérience existante dans la littérature
Description
Keywords
Gap optique, Indice de réfraction, Conductivité électrique : minéraux, Couche mince, Energie urbach, Spray pyrolyse